发明名称 低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法
摘要 本发明提供了一种低辐射薄膜,包括:衬底,置于所述衬底上的第一介质层,所述第一介质层为Ta2O5;置于所述第一介质层上的功能层,所述功能层为Ag;置于所述功能层上的第二介质层,所述第二介质层为Ta2O5。本发明还提供了一种低辐射玻璃及其制备方法。本发明采用Ta2O5作为第一介质层和第二介质层,Ta2O5能够形成致密的薄膜,作为介质层时,能够有效阻隔空气中的氧气和水汽等渗透进入功能层,从而减轻氧气和水汽对金属银的腐蚀氧化,增加低辐射薄膜的稳定性,使得低辐射薄膜不易失去低辐射性能。实验表明,本发明提供的低辐射玻璃具有良好的光学性能和稳定性,可以在空气中存放数年。
申请公布号 CN102653455A 申请公布日期 2012.09.05
申请号 CN201110049715.2 申请日期 2011.03.01
申请人 苏州大学 发明人 狄国庆
分类号 C03C17/36(2006.01)I 主分类号 C03C17/36(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 常亮;李辰
主权项 一种低辐射薄膜,包括:衬底;置于所述衬底上的第一介质层,所述第一介质层为Ta2O5;置于所述第一介质层上的功能层,所述功能层为Ag;置于所述功能层上的第二介质层,所述第二介质层为Ta2O5。
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