发明名称 液质调整装置、液质调整方法以及线电极放电加工装置
摘要 本发明所涉及的液质调整装置具有:纯水化单元(9),其使加工液脱离子化;防腐蚀单元(8),其将加工液中的离子交换为防腐蚀离子;导电率测定单元(10),其对加工液的导电率的实际测量值进行测定;存储单元(11),其预先存储上述加工液中的可加工的导电率的上限值即第一基准值、下限值即第二基准值、处于第一基准值和第二基准值之间的第三基准值;以及控制单元(12、13),其基于存储在该存储单元(11)中的基准值和由上述导电率测定单元(10)测定的加工液的导电率实际测量值进行控制,在加工液的导电率超过第一基准值的情况下,仅向纯水化单元(9)通水,如果加工液的导电率低于第二基准值,则停止向纯水化单元(9)通水,并且仅向上述防腐蚀单元(8)通水,如果加工液的导电率超过第三基准值,则停止向防腐蚀单元(8)通水。
申请公布号 CN102655974A 申请公布日期 2012.09.05
申请号 CN200980162996.3 申请日期 2009.12.18
申请人 三菱电机株式会社;菱电工机工程株式会社 发明人 大畑珠代;佐藤达志;栗木宏德;瓦井久胜;谷村纯二;汤泽隆
分类号 B23H7/36(2006.01)I 主分类号 B23H7/36(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 何立波;张天舒
主权项 一种液质调整装置,其具有:纯水化单元,其使加工液脱离子化;防腐蚀单元,其将加工液中的离子交换为防腐蚀离子;导电率测定单元,其对加工液的导电率的实际测量值进行测定;存储单元,其预先存储所述加工液中的可加工的导电率的上限值即第一基准值、下限值即第二基准值、处于第一基准值和第二基准值之间的第三基准值;以及控制单元,其基于存储在该存储单元中的基准值和由所述导电率测定单元测定的加工液的导电率实际测量值,对加工液向所述纯水化单元、防腐蚀单元的通水进行控制,其特征在于,所述控制单元以如下方式进行控制,即,在加工液的导电率超过第一基准值的情况下,仅向纯水化单元通水,如果加工液的导电率低于第二基准值,则停止向纯水化单元的通水,并且仅向所述防腐蚀单元通水,如果加工液的导电率超过第三基准值,则停止向防腐蚀单元通水。
地址 日本东京