发明名称 |
RI 制造装置 |
摘要 |
本发明提供一种RI制造装置,其能够在维修配置于自屏蔽体内的设备时,降低被放射化的靶辐射的危险,并能够缩短用于衰减放射线的待机时间。一种RI制造装置(1),其具有加速带电粒子的加速器(2)、被照射带电粒子束的靶(3)及包围这些加速器(2)及靶(3)来屏蔽放射线的自屏蔽体(6),其结构设为具备在自屏蔽体(6)与加速器(2)之间包围靶(3)来屏蔽放射线的靶屏蔽体(7、8)。即使在开放自屏蔽体(6)的情况下,来自靶(3)的放射线也会被靶屏蔽体(7、8)屏蔽,因此在维修靶(3)以外的设备时,不用等待放射线衰减也能够进行操作。 |
申请公布号 |
CN102655029A |
申请公布日期 |
2012.09.05 |
申请号 |
CN201210053170.7 |
申请日期 |
2012.03.02 |
申请人 |
住友重机械工业株式会社 |
发明人 |
田中秀树 |
分类号 |
G21G1/10(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I;G21F3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G21G1/10(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
胡建新 |
主权项 |
一种放射性同位素制造装置,其特征在于,具备:加速带电粒子的加速器;照射由所述加速器加速的所述带电粒子来制造放射性同位素的靶;作为包围所述加速器及所述靶来屏蔽放射线的壁体的自屏蔽体;及配置于所述自屏蔽体与所述加速器之间,作为包围所述靶来屏蔽放射线的壁体的靶屏蔽体。 |
地址 |
日本东京都 |