防止或者降低浸没式光刻投影设备的污染的方法

摘要

本发明公开了一种防止或者降低浸没式投影设备的污染的方法。所述设备包括至少一个浸没空间，当所述设备将辐射束投射到衬底上时，用液体至少部分地填充所述浸没空间。所述方法包括在利用所述设备将辐射束投射到衬底上之前用漂洗液漂洗至少部分浸没空间。

主权项

一种用于防止或者降低浸没式投影设备的污染的方法，所述设备包括至少一个浸没空间，当所述设备将辐射束投射到衬底上时，用液体至少部分地填充所述浸没空间，所述方法包括：在使用所述设备将辐射束投射到衬底上之前，用漂洗液漂洗至少部分浸没空间以及在用漂洗液漂洗的过程中使浸没空间的位置发生变化时用漂洗液漂洗在衬底支架/构图装置支架内或其附近延伸的至少一个狭缝或者孔径。