带有位于具有多个区域的气垫上的基板保持件的CVD反应器

摘要

本发明涉及一种带有处理腔(23)和布置在该处理腔中的基板保持件支架(1)的CVD反应器，该基板保持件支架(1)具有至少一个支承面(4)，其中，在所述支承面(4')中通入多个气体输入管道(7,8)；所述CVD反应器还具有一以其背面指向所述支承面(4')的基板保持件(2)，其中，通过气体输入管道(7,8)供入支承面(4')与背面之间空间中的气体形成支撑所述基板保持件(2)的气垫(19)。重要的是，气垫具有多个分别能够通过对应配设的气体输入管道(7,8)个别供气的区域(A,C)，所述区域(A,C)通过防止各区域之间气体交换的器件(15)分隔，其中，至少一个位于内部的区域(C)配有一气体排出管道(13,14)，通过气体排出管道(13,14)，位于内部的区域(C)能够排出由输入管道(7,8)供入的气体。不同导热率的气体输入这些区域中。

主权项

一种带有处理腔(23)和设在该处理腔中的基板保持件支架(1)的CVD反应器，该基板保持件支架(1)具有至少一个支承面(4)，其中，在所述支承面(4')中通入多个气体输入管道(7,8)，该CVD反应器还具有以其背面指向所述支承面(4')的基板保持件(2)，其中，由所述气体输入管道(7,8)通入支承面(4')与背面之前的空间中的气体形成支撑所述基板保持件(2)的气垫(19)，其特征在于，所述气垫具有多个可分别通过对应配设的气体输入管道(7,8)个别供气的区域(A,C)，所述各区域(A,C)通过防止各区域(A,C)之间气体交换的器件(15)相互隔开，其中，至少一个位于内部的区域(C)配有气体排出管道(13,14)，由所述输入管道(7,8)输入所述位于内部的区域(C)中的气体能够通过所述气体排出管道(13,14)导出。