| 发明名称 | 一种等离子体处理设备及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子体处理设备，包括工艺腔室、设置于工艺腔室内的上电极和下电极，以及设置于上电极和下电极之间的栅网，该栅网上连接有交流电压，交流电压的参数可被调节以改变等离子体参数。本发明还提供一种等离子体处理方法。本发明提供的等离子体处理设备及方法能够对等离子体参数进行有效调节，并增大等离子体参数的调节范围，同时降低颗粒污染。 | ||
| 申请公布号 | CN102024658B | 申请公布日期 | 2012.09.05 |
| 申请号 | CN200910093054.6 | 申请日期 | 2009.09.22 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 韦刚 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 张天舒;陈源 |
| 主权项 | 一种等离子体处理设备，包括工艺腔室、设置工艺腔室内的上电极和下电极，其特征在于，在所述上电极和下电极之间设置有栅网，所述栅网连接有周期性变化的交流电压，所述交流电压的参数可被调节以改变等离子体参数。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 | ||