发明名称 液浸曝光装置、液浸曝光方法、及元件制造方法
摘要 一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的装置和方法系被揭示。该装置和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16),以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202),该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时,一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。
申请公布号 TWI371649 申请公布日期 2012.09.01
申请号 TW100127308 申请日期 2004.04.09
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 比纳德 麦克 比斯克
分类号 G03B27/32;G03B27/42;G03B27/58;G03F7/20;H01L21/00 主分类号 G03B27/32
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本