| 摘要 |
本发明揭示一种膜形成装置，其包括：一长筒形处理容器，其内部可建立真空；一待处理物件固持单元，其以层状的方式支撑复数个待处理物件，且可以插入及自该处理容器中移出；一加热单元，其设置于该处理容器周围；一以矽烷为主之气体供应单元，其供应以矽烷为主之气体至该处理容器中，该以矽烷为主之气体不含卤素元素；一氮化气体供应单元，其供应氮化气体至该处理容器中；一活化单元，其以电浆将该氮化气体活化；及一控制单元，其控制该以矽烷为主之气体供应单元、该氮化气体供应单元及该活化单元，其方式为：将该以矽烷为主之气体及该氮化气体一起供应至该处理容器内，同时使氮化气体活化，以在该等复数个待处理物件之每一物件上形成一预定薄膜。 |
