发明名称 高迁移率之场效应电晶体之结构与制造方法
摘要 一种制造一高迁移率之半导体层结构及场效应电晶体(MODFET)之结构及方法。此结构具有一高迁移率之导电性通道,同时维持相反掺杂,以控制有害的短通道效应。此MODFET设计包含一高迁移率之导电性通道,其中此方法使用一标准技术,如离子植入,使相反掺杂得以形成,且进一步使高迁移率通道接近相反掺杂(counter-doping),而不会有迁移率下降。
申请公布号 TWI371856 申请公布日期 2012.09.01
申请号 TW093129827 申请日期 2004.10.01
申请人 万国商业机器公司 美国 发明人 杰克O 朱;斯帝文J 寇斯特;裘林C 欧阳
分类号 H01L29/772 主分类号 H01L29/772
代理机构 代理人 蔡玉玲 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项
地址 美国