一种场发射阴极之制备方法

摘要

本发明涉及一种场发射阴极之制备方法，该方法包括下列步骤：提供一基板，于该基板上沈积一金属层；于金属层表面形成复数凹槽；对金属层表面进行氧化处理，形成一金属氧化物层；去除复数凹槽底部之金属氧化物层；于凹槽底部设置一层金属盐溶液；于凹槽底部生长奈米碳管。