| 发明名称 |
于浸渍微影系统中消除浸渍介质中之气泡的方法及装置 |
| 摘要 |
一种浸渍微影系统(26)之操作方法，包括以下步骤：将晶圆(12)之至少一部分欲进行曝光者浸渍于浸渍介质(24)中，其中，该浸渍介质包括至少一气泡(28)；导入超音波(36)通过该浸渍介质之至少一部分以瓦解及/或消散该至少一气泡；以及在导入起音波后藉由电磁波通过浸渍介质将晶圆以曝光图样进行曝光。其中并同时揭露用于浸渍微影系统(26)之监视和控制系统(30、32、34)。 |
| 申请公布号 |
TWI371659 |
申请公布日期 |
2012.09.01 |
| 申请号 |
TW093126313 |
申请日期 |
2004.09.01 |
| 申请人 |
格罗方德半导体公司 美国 |
发明人 |
帕罗斯基 亚当Ｒ;爱比杜 爱默Ｙ;埃帕德 吉利Ｒ;拉方登 布鲁洛Ｍ;拉洛菲克 艾芬;拉芬森 哈利 Ｊ;史崔夫斯卡 杰弗瑞 Ａ;塔伯瑞 西瑞斯 Ｅ;蔡法兰克 |
| 分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
