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发明名称
辐射系统及包含该辐射系统之微影装置
摘要
本发明揭示一种用于一远紫外线微影系统中之光学感应器装置。该装置包括:一光学感应器,其包含一感应器表面;及一移除机件,其经组态以自该感应器表面移除碎片。因此,可针对微影系统而方便地执行剂量及/或污染物量测。
申请公布号
TWI371663
申请公布日期
2012.09.01
申请号
TW096134960
申请日期
2007.09.19
申请人
ASML荷兰公司 荷兰;皇家飞利浦电子股份有限公司 荷兰
发明人
马登 马瑞司 乔汉娜 威贺默思 凡 赫本;凡丁 叶弗真叶米希 班尼;乔汉纳 克利斯丁 里欧那达 法兰肯;欧勒夫 华德玛 佛勒迪米尔 佛利恩斯;德克 珍 威弗瑞德 克朗德;奈尔斯 麦奇尔 德瑞森;华特 安东 索尔
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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