发明名称 |
气体冲淋器,微影装置及气体冲淋器之使用 |
摘要 |
本发明系关于一种调节一光学装置中之至少一种光学路径之气体冲淋器,其中该气体冲淋器包括一具有一用以将气体供应至该光学路径之冲淋器出口面之气体分布室,该气体分布室经组态以将该气体分布至该光学路径,其中该气体分布室包括一大体上锐锥形头端。 |
申请公布号 |
TWI371660 |
申请公布日期 |
2012.09.01 |
申请号 |
TW095137470 |
申请日期 |
2006.10.12 |
申请人 |
ASML荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
贾克 尔德理安 鲁道夫 凡 因培;罗兰德 凡 德 汉;尼克 贾古柏 乔汉那 罗赛特 |
分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
|
地址 |
荷兰 |