发明名称 |
影像测量之方法及装置,曝光设备,影像测量之基板,及装置制造方法 |
摘要 |
提供一种影像测量方法,用于测量投射光学系统投射的光罩图案的影像。方法包含下述步骤:当具有狭缝及孔径且该孔径的宽度比该狭缝的宽度大之基底配置在投射光学系统的影像平面时,侦测透射过孔径的光;根据侦测步骤中侦测到的光的讯号,调整狭缝的对齐角度;以及,当在投射光学系统的影像平面中移动对齐角度已于调整步骤中被调整的狭缝时,藉由侦测透射过狭缝的光以测量影像。 |
申请公布号 |
TWI371582 |
申请公布日期 |
2012.09.01 |
申请号 |
TW097118769 |
申请日期 |
2008.05.21 |
申请人 |
佳能股份有限公司 日本 |
发明人 |
大久保彰律 |
分类号 |
G01M11/02;G03F7/20;H01L21/02 |
主分类号 |
G01M11/02 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |