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Bei einem UV-Lasersystem wird das Problem der Abscheidung von Rückständen von organischen Substanzen auf den Oberflächen von optischen Bauteilen vermieden, so dass man eine Reduzierung der Laserleistung vermeiden kann. Ein Wellenlängenumrichtungskristall (10), der zur Generierung von UV-Laserlicht verwendet wird, ist mit einer reflektierenden Ebene (14) versehen, die selektiv das UV-Laserlicht (23) reflektiert, um das UV-Laserlicht zu veranlassen, von einem anderen Teil des Wellenlängenumrichtungskristalls als von einem optischen Pfad eines Grundwellen-Laserlichts (21) emittiert zu werden. Die Rückstände können auf dem Teil des Wellenlängenumrichtungskristalls abgeschieden werden, von dem aus das UV-Laserlicht emittiert wird, jedoch nicht in dem Teil desselben, durch den das Grundwellen-Laserlicht geht, so dass der Generierungsprozess für das UV-Laserlicht von der Abscheidung der Rückstände nicht beeinflusst wird.
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