发明名称 | 创建高度受限区域信息和制造三维结构的方法和设备 | ||
摘要 | 本发明公开了用于创建高度受限区域信息的方法、设备和制造三维结构的方法。基平面高度确定单元确定基平面是否是利用具有不同高度的多个平面形成的。基平面确定单元在确定出基平面是利用具有不同高度的多个平面形成的时,确定是采用所述多个平面还是单个平面作为基础。高度受限区域信息创建单元在确定采用多个平面作为所述基础时通过采用不同位置的不同平面作为基础来创建高度受限区域信息,或者通过采用所述多个平面中的单个平面作为基础来创建高度受限区域信息。 | ||
申请公布号 | CN101154244B | 申请公布日期 | 2012.08.29 |
申请号 | CN200710079282.9 | 申请日期 | 2007.02.13 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 有田裕一;野崎直行;天间司 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人 | 赵淑萍 |
主权项 | 一种用于基于三维结构的三维形状信息创建从基平面起的空闲空间的高度受限区域信息的设备,其中所述空闲空间在多个子结构被组合时形成在所述三维结构中,所述设备包括:基平面高度确定单元,其确定所述基平面是否是利用多个高度随位置有所不同的平面形成的;基平面确定单元,其在确定出所述基平面是利用多个高度随位置有所不同的平面形成的时,确定是采用所述具有不同高度的多个平面还是单个平面作为基础;以及高度受限区域信息创建单元,其在确定采用所述具有不同高度的多个平面作为所述基础时,通过采用不同位置的不同平面作为所述基础来创建所述高度受限区域信息,并且在确定采用所述单个平面作为基础时,通过采用所述具有不同高度的多个平面中的单个平面作为所述基础来创建所述高度受限区域信息,其中所述高度受限区域信息创建单元输入和读取所述三维形状信息,该三维形状信息包括机架和部件的三维形状信息,计算每个区域的最大高度,并利用参数信息中的容限创建相同水平区域,所述基平面是由印制电路板和安装在该印制电路板上的部件所形成的平面,并且所述基平面确定单元确定所述印制电路板上是否安装有组件。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |