发明名称 支持结构与光刻设备
摘要 一种光刻设备包括:配置成可调节辐射束(B)的照明系统;配置成可支撑图案形成装置(MA)的支持体(MT),该图案形成装置能够将图案赋予辐射束的截面以形成图案化的辐射束;其中,支持体设置成至少当支持体被加速时使图案形成装置的第一侧边(51)经受垂直于加速度方向的至少一个第一力(F1),以使图案形成装置相对于支持体的加速为图案形成装置和支持体之间的接触面(CA)处发生的摩擦力所抵消,其中支持体与夹紧装置(CD)相关联,该夹紧装置设置成至少当支持体得到加速时使图案形成装置的第二侧边(S2)经受至少一个第二力(F2)。
申请公布号 CN101084471B 申请公布日期 2012.08.29
申请号 CN200480044654.9 申请日期 2004.12.23
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 D·-J·比沃特;J·F·胡格坎普
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波;.
主权项 一种光刻设备,包括:‑配置成可调节辐射束的照明系统;‑配置成可支撑图案形成装置的支持体,所述图案形成装置能够将图案赋予所述辐射束的截面以形成图案化的辐射束;其中,所述支持体设置成至少当所述支持体被加速时使所述图案形成装置的第一侧边经受垂直于加速度方向的至少一个第一力,以使所述图案形成装置相对于所述支持体的加速度为在所述图案形成装置和所述支持体之间的接触面处发生的摩擦力所抵消,其中,所述支持体与夹紧装置相关联,所述夹紧装置设置成至少当所述支持体被加速时使所述图案形成装置的第二侧边经受至少一个第二力,所述第二力垂直于支持体的加速度方向,且所述第二力基本上施加得使其起作用的主要方向基本上与相应的第一力的主要方向重合,其中所述夹紧装置包括绕枢轴转动的杆组件,所述杆组件可绕与所述支持体呈固定位置关系的枢轴转动,并且包含与所述图案形成装置接触的杆件,以在绕枢轴转动的同时在所述图案形成装置上提供所述第二力,其中所述杆组件固定连接有在加速期间使所述杆组件绕枢轴转动的两个质量块,所述质量块通过它们的惯性根据加速度的方向来提供所述第二力。
地址 荷兰费尔德霍芬