发明名称 光敏性糊剂组合物及用其形成等离子体显示屏障壁的方法
摘要 本发明涉及等离子体显示屏障壁形成用光敏性糊剂组合物和等离子体显示屏障壁形成方法。本发明提供如下PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物,该组合物适合于利用紫外线照射的光刻法,并且其不仅能够利用一次光刻工序形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形,而且能够实现高强度和高分辨率,并确保烧制裕度,从而能够形成安全的障壁图案。本发明特别是涉及含有无机成分以及光敏性有机成分的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物,所述无机成分含有玻璃粉末和填料,所述组合物的特征在于,所述填料包含至少70重量%的α-石英。
申请公布号 CN101281371B 申请公布日期 2012.08.29
申请号 CN200810090144.5 申请日期 2008.04.07
申请人 株式会社东进世美肯 发明人 朴赞硕;高俊;黄建镐;郑熙俊;郑镛埈;金泰成
分类号 G03F7/075(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I;H01J9/24(2006.01)I 主分类号 G03F7/075(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 丁香兰
主权项 一种PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物,该组合物含有a)无机成分以及b)光敏性有机成分,所述无机成分含有i)玻璃粉末和ii)填料,所述组合物的特征在于,在100重量份所述糊剂组合物中,所述填料为0.1重量份~20重量份,所述填料单独使用α‑石英,或者所述填料是鳞石英、方石英、柯石英、非晶质石英、氧化铝、氧化钛、氧化锌和超石英中的1种以上与α‑石英的混合物,此时含有至少70重量%的α‑石英。
地址 韩国仁川市