发明名称 半导体层的制造方法,光电转换装置的制造方法及半导体层形成用溶液
摘要 本发明的实施方式的半导体层的制造方法具备:准备第一化合物的工序、准备第二化合物的工序、制作半导体层形成用溶液的工序、和采用该半导体层形成用溶液制作含有I-III-VI族化合物的半导体层的工序。所述第一化合物含有:第一含有硫族元素的有机化合物、第一路易斯碱、I-B族元素和第一III-B族元素。另外,所述第二化合物含有有机配体和第二III-B族元素。另外,所述半导体层形成用溶液含有所述第一化合物、所述第二化合物和有机溶剂。
申请公布号 CN102652367A 申请公布日期 2012.08.29
申请号 CN201180004700.2 申请日期 2011.01.25
申请人 京瓷株式会社 发明人 小栗诚司;武田启三;山田光一郎;谷川康太郎;田中勇;笹森理一;小川浩充
分类号 H01L31/04(2006.01)I 主分类号 H01L31/04(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种半导体层的制造方法,其特征在于,具备:准备包含第一含有硫族元素的有机化合物、第一路易斯碱、I‑B族元素及第一III‑B族元素的第一化合物的工序;准备包含有机配体及第二III‑B族元素的第二化合物的工序;制作含有所述第一化合物、所述第二化合物及有机溶剂的半导体层形成用溶液的工序;采用所述半导体层形成用溶液制作含有I‑III‑VI族化合物的半导体层的工序。
地址 日本京都府