过孔的刻蚀方法、阵列基板、液晶面板及显示设备

摘要

本发明公开了一种过孔的刻蚀方法、阵列基板、液晶面板及显示设备，涉及液晶显示技术领域，解决了现有像素电极过孔的制造成本高，及过孔形貌不佳导致的薄膜晶体管液晶显示器良率降低等问题。本发明实施例将有机绝缘层的曝光、显影工艺与热磷酸的湿法刻蚀工艺结合起来，热磷酸的高温使得悬空的有机绝缘层软化，软化的有机绝缘层在重力的作用下覆盖在栅极绝缘层的过孔上，可实现像素电极过孔形貌的自动修补，相比于现有技术，无需增加后续的灰化扩孔工序，工艺简单，且湿法刻蚀设备简单、便宜，从而降低了像素电极过孔的制造成本，进而降低了薄膜晶体管液晶显示器的制造成本，并提高了薄膜晶体管液晶显示器的良率。

主权项

一种过孔的刻蚀方法，其特征在于，包括：采用过孔掩膜对形成在栅极绝缘层上的有机绝缘层进行曝光、显影工艺，以在所述有机绝缘层中形成第一过孔，暴露出部分所述栅极绝缘层；所述栅极绝缘层覆盖在形成有栅电极的衬底上；用热磷酸对所述暴露出的栅极绝缘层进行湿法刻蚀，以在所述栅极绝缘层中形成第二过孔，并暴露出所述栅电极，所述热磷酸的温度为140℃～190℃；用温水清洗依次形成有所述栅电极、所述栅极绝缘层、所述有机绝缘层的衬底；剥离所述过孔掩膜。