再循环处理液的方法及设备

摘要

本发明涉及一种用于再循环从半导体加工工具的排放口出来的处理液的方法及设备。处理液可以是在半导体加工步骤中用于防止铜互连中的电迁移的酸钴溶液或无电镀的钴溶液。如果流体的状态在预定范围内，收集来自工具排放口的用过的处理液并再循环回到工具入口。否则，用过的处理液从系统中排出。该系统还可以在排出和进料模式下运行，其中用过的处理液的一部分被周期性地排出系统。

主权项

一种再循环来自半导体加工工具的酸钴溶液的方法，包括以下步骤：回收从半导体加工工具的排放口出来的用过的酸钴溶液，其中用过的酸钴溶液从排放口流入回收管路中；用与回收管路相连的传导性探头检测用过的酸钴溶液的传导性；向控制器发送指示传导性的信号，并判断传导性是否在预定传导性范围内；如果传导性在预定的传导性范围内，则将用过的酸钴溶液再循环到半导体加工工具，以及如果传导性超出预定的传导性的范围，则将至少一部分用过的酸钴溶液转移到系统排放口，其中，再循环酸钴溶液的步骤包括将用过的酸钴溶液运送到罐中，并将酸钴溶液从罐中泵送到半导体加工工具的入口；以及当罐中的酸钴溶液的液位到达低设定点时，向罐中添加新的酸钴溶液。