| 发明名称 | 用于向光敏物质中空间分辨地输入电磁辐射的强度图案的方法和装置及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于空间分辨地通过光学成像系统将由电磁辐射组成的强度图案引入光敏物质(2)中的方法，所述光敏物质具有能通过光子照射改变的特性。这些特性包括液态的第一状态和至少一个第二状态，其中电磁辐射(4)通过所述光学成像系统(3)导入所述光敏物质(2)中并在这投影到预先确定的位置坐标上，以便在这些位置坐标处或在包围所述位置坐标的区域内形成物质特性的改变。为此，光学成像系统(3)的物镜透镜的表面(6)浸入液态的光敏物质(2)中，所述电磁辐射通过所述表面从所述光学成像系统中射出。本发明的主题此外还涉及一种用于实施所述方法的装置及其在形成微尺度或纳米尺度的结构中的应用。 | ||
| 申请公布号 | CN102649314A | 申请公布日期 | 2012.08.29 |
| 申请号 | CN201210044761.8 | 申请日期 | 2012.02.23 |
| 申请人 | 光刻设备有限公司 | 发明人 | 迈克尔·蒂尔;H·费舍尔 |
| 分类号 | B29C67/04(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I | 主分类号 | B29C67/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 武晨燕;张颖玲 |
| 主权项 | 用于空间分辨地通过光学成像系统将电磁辐射的强度图案引入光敏物质中的方法，所述光敏物质具有能通过光子照射改变的特性，这些特性包括液态的第一状态和至少一个第二状态，其中电磁辐射(4)通过所述光学成像系统(3)导入所述光敏物质(2)中并在这投影到预先确定的位置坐标上，以便在这些位置坐标处或在包围所述位置坐标的区域内形成物质特性的改变，其特征在于，光学成像系统(3)的物镜透镜的表面(6)伸入液态的光敏物质(2)中，所述电磁辐射通过所述表面从所述光学成像系统中射出。 | ||
| 地址 | 德国巴登-符腾堡州 | ||