发明名称 OLED器件、AMOLED器件及其制造方法
摘要 本发明实施例公开了一种OLED器件、AMOLED器件及其制造方法,属于照明器件及显示器件制造领域,用以扩大OLED器件电极功函数的调节范围,提高OLED器件的发光效率;减少AMOLED器件的制造工艺,降低生产成本。其中AMOLED器件包括,TFT有源层、像素电极层及OLED器件,所述OLED器件包括阴极层和功能层,所述像素电极层作为所述OLED器件的阳极层;或者,所述OLED器件包括阳极层和功能层,所述像素电极层作为所述OLED器件的阴极层;且所述TFT有源层、像素电极层由同一层IGZO薄膜经过构图工艺形成的。本发明实施例适用于照明器件及显示器件制造。
申请公布号 CN102651455A 申请公布日期 2012.08.29
申请号 CN201210048814.3 申请日期 2012.02.28
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 李延钊;王刚;李禹奉;张立
分类号 H01L51/52(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L51/52(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种OLED器件,包括阳极层、功能层和阴极层,其特征在于,所述阴极层和/或所述阳极层由氧化物半导体铟镓锌氧IGZO材料制成。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号