发明名称 |
磁通密度及构件损耗测量定位装置 |
摘要 |
本实用新型涉及一种磁通密度及构件损耗测量定位装置,属于电磁测量技术领域。技术方案是包含四个结构件支架(12)、定位夹件、定位板和磁屏蔽,在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件(1、2、3、4),每个定位板分别与磁屏蔽一起设置在定位夹件上,定位板大小与磁屏蔽相同,在定位板的一面设有若干规则排列的槽,槽正好容纳高斯计探头进出。本实用新型的积极效果是:解决了构件损耗和磁通密度测量过程中,测量结果准确度较低,重复性较差的问题。尤其是在磁通密度测量上,可较大程度地提高测量准确度。另外,上述所有结构件均为非铁磁材料,避免了新加结构件后对原系统测量结果的影响。 |
申请公布号 |
CN202404220U |
申请公布日期 |
2012.08.29 |
申请号 |
CN201120553703.9 |
申请日期 |
2011.12.27 |
申请人 |
保定天威集团有限公司 |
发明人 |
王晓燕;刘兰荣;刘涛;范亚娜;程志光;李杰 |
分类号 |
G01R33/12(2006.01)I;G01R33/02(2006.01)I |
主分类号 |
G01R33/12(2006.01)I |
代理机构 |
唐山顺诚专利事务所 13106 |
代理人 |
于文顺 |
主权项 |
一种磁通密度及构件损耗测量定位装置,其特征在于包含四个结构件支架(12)、定位夹件、定位板和磁屏蔽,在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件(1、2、3、4),若干定位板分别与磁屏蔽一起设置在定位夹件上,定位板大小与磁屏蔽相同,在定位板的一面设有若干规则排列的槽。 |
地址 |
071051 河北省保定市银杏路198号金迪花园综合楼 |