METHOD OF CALCULATING MODEL PARAMETERS OF A SUBSTRATE, A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN APPARATUS FOR CONTROLLING LITHOGRAPHIC PROCESSING BY A LITHOGRAPHIC APPARATUS.,申请号NL20122008168-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF CALCULATING MODEL PARAMETERS OF A SUBSTRATE, A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN APPARATUS FOR CONTROLLING LITHOGRAPHIC PROCESSING BY A LITHOGRAPHIC APPARATUS.
摘要
申请公布号	NL2008168(A)	申请公布日期	2012.08.28
申请号	NL20122008168	申请日期	2012.01.24
申请人	ASML NETHERLANDS B.V., NULL	发明人	LYULINA, IRINA;SIMONS, HUBERTUS;TENNER, MANFRED;HERES, PIETER;KEMENADE, MARC;SANDEN, STEFAN;SLOTBOOM, DAAN
分类号	G03F7/20	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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