发明名称 量化材料未知应力与残余应力的装置及其方法
摘要 一种量化材料未知应力与残余应力的装置,用于量化一待测物的未知应力与残余应力,该装置包括:一光源、一偏光镜、一第一四分之一波片、一标准试片、一第二四分之一波片、一检光镜、一施载单元、一光谱仪及一检测模块;该光源用于产生多波长或单波长之光;该偏光镜设置于该光源前方,且其一面面对该光源以使光产生偏振;该第一四分之一波片设置于该偏光镜前方,且其一面面对该光源以使光产生圆偏振;本发明还揭露量化材料未知应力与残余应力的方法。
申请公布号 CN102645295A 申请公布日期 2012.08.22
申请号 CN201210099852.1 申请日期 2012.04.06
申请人 王伟中 发明人 王伟中;黄吉宏;宋泊锜;陈维仁;赖冠廷
分类号 G01L1/24(2006.01)I 主分类号 G01L1/24(2006.01)I
代理机构 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人 张元俊
主权项 一种量化材料未知应力与残余应力的装置,用以量化一个待测物的未知应力与残余应力,该待测物为光学双折射性材料或瞬时光学双折射性材料,其特征在于,该量化材料未知应力与残余应力的装置包括:一个光源,用以产生多波长或单波长之光;一个偏光镜,设置于该光源前方,且其中一个面面对该光源以使光产生偏振;一个第一四分之一波片,设置于该偏光镜前方,且其中一面面对该光源以使光产生圆偏振;一个标准试片,其材质与该待测物相同且无未知应力与残余应力,其中设置于该第一四分之一波片前方,且其中一个面面对该第一四分之一波片的另一面;一个第二四分之一波片,设置于该标准试片前方,且其中一个面面对该标准试片的另一面;一个检光镜,设置于该第二四分之一波片前方,且其中一个面面对该第二四分之一波片的另一面;一个施载单元,用以施载该标准试片;一个光谱仪,设置于该检光镜前方,用以记录从该检光镜穿透光的光强,并得到该标准试片对应该光源的波长下的穿透率光谱;以及一个检测模块,与该光谱仪连结,其通过该光谱仪得到之该标准试片对应该光源的波长下的穿透率光谱,得到该标准试片的应力量化公式,并以该标准试片的应力量化公式搭配该待测物的正规化穿透率,求得该待测物之应力分布。
地址 中国台湾新竹市光复路二段101号