再循环从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中产生的含浆料的废水的再循环方法和装置

摘要

本发明涉及一种用于从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中再循环含抛光浆料废水的再循环方法和再循环装置。所述方法由以下步骤组成：一个过滤步骤，在其中将含新鲜抛光浆料的废水连续引入一个循环容器(10)中，在此过程中从该循环容器(10)中连续抽出该混合废水，将该抽出的废水引导穿过一个超滤装置(20)并且通过去除液体而进行浓缩从而形成浓缩废水，并且将该浓缩废水引入该循环容器(10)中并且与该循环容器(10)的内含物混合以便得到该混合废水；以及在该过滤步骤之后的一个浓缩步骤，其中当从该循环容器(10)中连续抽出混合废水时阻止或实质上停止向该循环容器(10)中添加新鲜废水，将所述抽出的混合废水引导穿过该超滤装置(20)并且通过去除液体而进行浓缩从而形成浓缩废水，并且将该浓缩废水引入该循环容器(10)中。

主权项

一种用于从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中再循环抛光浆料废水的方法，包括以下工艺步骤：‑一个过滤步骤，在其中将新鲜的含抛光浆料废水连续供送至一个循环容器(10)，同时从该循环容器(10)中连续抽出混合废水，使抽出的混合废水穿过一个超滤装置(20)并且由此通过抽出液体而进行浓缩从而给出浓缩废水，并且将该浓缩废水通入该循环容器(10)中并且与该循环容器(10)的内含物混合以便得到该混合废水；以及‑在该过滤步骤之后及时进行的一个浓缩步骤，在其中将供给该循环容器(10)的新鲜废水进料减少或者实质上切断，同时从该循环容器(10)中连续抽出混合废水，使抽出的混合废水穿过该超滤装置(20)并且由此通过抽出液体而进行浓缩从而给出浓缩废水，并且将该浓缩废水通入该循环容器(10)中。