灰色调掩模的缺陷修正方法与灰色调掩模

摘要

本发明的缺陷修正方法具有遮断曝光光线的遮光部、透过曝光光线的透光部、减少曝光光线的透过量的灰色调部的，适用于在被复制体上形成膜厚逐步或连续式变异的抗蚀剂图案的灰色调掩膜。在此缺陷修正方法中，上述灰色调部由半透光膜形成。此缺陷修正方法包括在上述灰色调部中确定发生脱落缺陷的待修正区域的工序，在此待修正区域中形成能用来获得与上述灰色调部中正常灰色调部分有相同灰色调效果的精细图案状的修正用遮光膜的工序。

主权项

一种灰色调掩模的缺陷的修正方法，它是具有遮断曝光光线的遮光部、透过曝光光线的透光部、减少曝光光线的透过量的灰色调部的，用于在被复制体上形成膜厚逐步或连续式变异的抗蚀剂图案的灰色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于：上述灰色调部是由半透光膜形成，而此方法包括在上述灰色调部中确定发生缺陷的待修正区域的工序，在此待修正区域中形成能用来获得与上述灰色调部中正常灰色调部分有相同灰色调效果的精细图案的工序，上述待修正区域是：在该灰色调掩模制造后于上述灰色调部中发生的脱落缺陷区域内，包含有在局部形成修正用半透光膜时生成的与该半透光膜重叠部分的区域；或者是在将上述灰色调部中发生的上述遮光部的形成材料或杂质组成的剩余缺陷所在区域予以除去时所形成的脱落缺陷区域内，包含有在局部形成修正用半透光膜时生成的与该半透光膜重叠部分的区域，其中，形成上述精细图案的工序包括将上述半透光膜和上述修正用半透光膜的重叠部分加工成能取得与上述灰色调部中的正常灰色调部分相同灰色调效果的精细图案状的工序。