| 摘要 |
<p>본 발명의 과제는 기판 상에 공급되는 레지스트액 중의 이물질을 저감시켜, 레지스트 패턴의 결함을 저감시키는 것이다. 레지스트액 공급 장치(200)는 레지스트액을 저류하는 레지스트액 공급원(201)을 갖고 있다. 레지스트액 공급원(201)은 공급관(202)을 통해 도포 노즐(142)에 접속되어 있다. 레지스트액 공급원(201)의 하류측에는 공급관(202) 내의 레지스트액을 가열하는 히터(205)가 설치되어 있다. 히터(205)는 레지스트액을 23℃ 내지 50℃로 가열할 수 있다. 히터(205)의 하류측에는 레지스트액 중의 이물질을 제거하는 필터(207)가 설치되어 있다. 필터(207)의 하류측에는 공급관(202) 내의 레지스트액을 냉각하는 온도 조절 배관(211)이 설치되어 있다. 온도 조절 배관(211)은 레지스트액을 23℃로 냉각할 수 있다.</p> |
