| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION |
| 摘要 |
<p>Y는 적어도 1개의 불소 원자로 치환된 알킬렌기를 나타내고, R은 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타낸다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101175600(B1) |
申请公布日期 |
2012.08.22 |
| 申请号 |
KR20050010479 |
申请日期 |
2005.02.04 |
| 申请人 |
|
发明人 |
|
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
