发明名称 |
一种在线原子层沉积装置和沉积方法 |
摘要 |
一种在线原子层沉积装置,包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少一个装卸元件、提升元件、控制与检测系统、排气系统,其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室,所述前驱物送料系统设置在加工腔室侧面,所述装卸元件设置于加工腔室进、出口位置,所述提升元件设置在所述加工腔室的正下方,通过加工腔室上的开槽与基板承载装置接触,所述控制与检测系统和排气系统分别与加工腔室连接。该在线原子层沉积装置可以解决装载元件和基板承载装置复杂的问题,并能够以批处理的方式实现基板表面的原子层沉积。 |
申请公布号 |
CN102644062A |
申请公布日期 |
2012.08.22 |
申请号 |
CN201210091352.3 |
申请日期 |
2012.03.30 |
申请人 |
北京七星华创电子股份有限公司 |
发明人 |
赵星梅;盛金龙;彭文芳;李春雷 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
王莹 |
主权项 |
一种在线原子层沉积装置,其特征在于,包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少一个装卸元件、提升元件、控制与检测系统和排气系统,其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室中,所述前驱物送料系统设置在加工腔室的侧面,所述装卸元件设置于加工腔室的进、出口位置,所述提升元件设置在所述加工腔室的正下方,通过加工腔室上的开槽与基板承载装置接触,所述控制与检测系统和排气系统分别与加工腔室连接。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层 |