发明名称 | 用于等离子处理装置的挡板 | ||
摘要 | 本外观设计产品的名称为“用于等离子处理装置的挡板”。本外观设计产品用于在用于制造半导体的等离子处理装置的室中引导气流。本外观设计的设计要点在于产品的形状。指定设计1立体图1用于出版专利公报。指定设计1为基本设计。 | ||
申请公布号 | CN302043990S | 申请公布日期 | 2012.08.22 |
申请号 | CN201230072871.6 | 申请日期 | 2012.03.20 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 松本直树;吉川润 |
分类号 | 15-09 | 主分类号 | 15-09 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张涛 |
主权项 | |||
地址 | 日本东京 |