仿生陶瓷/金属叠层复合支架涂层制备工艺

摘要

仿生陶瓷/金属叠层复合支架涂层制备工艺，步骤为：a.首先利用双阴极等离子溅射沉积Ta层，获得100-200nm厚的Ta层；b.然后进行离子氧化，离子氧化为5-10min；c.利用双阴极等离子溅射沉积Au或Mg层，获得10-20nm厚的Au或Mg层，重复a-c步骤获得叠层涂层。d.溅射的靶材的种类：Au和Mg中的一种以及纯Ta靶；e.工件材料的种类：316L不锈钢。该涂层中Ta2O5层具有良好的耐腐蚀性和血液相容性，而金属Au或Mg层具有低弹性模量和良好生物相容性，不仅可以提高涂层的韧性，还可改善涂层与基材的结合强度。

主权项

仿生陶瓷/金属叠层复合支架涂层制备工艺，其特征在于步骤为：a. 首先利用双阴极等离子溅射沉积Ta层，工艺参数如下：靶材电压500~650V，工件电压250~300V，靶材与工件间距10~20 mm，工作气压35Pa，沉积温度450~850℃；溅射时间为10‑20min，获得100‑200nm厚的Ta层；b. 然后进行离子氧化，工艺参数如下: 工件电压650~850V，氧化温度450~600℃，工作气压35Pa，氧分压0.1‑1 Pa，离子氧化为5‑10min；c.利用双阴极等离子溅射沉积Au或Mg层，工艺参数如下：靶材电压400~650V，工件电压200~250V，靶材与工件间距10~20 mm，工作气压35Pa，沉积温度250~450℃；溅射时间为5‑10min，获得10‑20nm厚的Au或Mg层，重复a‑c步骤至少30次获得厚度5微米以上的叠层涂层； d.溅射的靶材的种类：Au和Mg中的一种以及纯T a靶；e. 工件材料的种类：316L不锈钢。