| 发明名称 | 二苯并并四噻吩化合物及其制备方法与应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种二苯并并四噻吩化合物及其制备方法与应用。二苯并并四噻吩化合物，结构如式I所示，其中，R为氢、烷基或芳基。本发明还提供了式(I)化合物的制备方法。本发明的合成路线简单、有效；原料为商业化的廉价产品，合成成本低；合成方法具有普适性，可以推广应用到其他各种取代基取代的二苯并并四噻吩化合物的合成。以本发明合成的[1]苯并噻吩并[2”.3”：4’，5’]噻吩并[2’.3’：4，5]噻吩并[3，2-b][1]苯并噻吩为有机半导体层制备的OFET的迁移率和开关比都比较高，迁移率最高为0.15cm<sup>2</sup>V<sup>-1</sup>s<sup>-1</sup>，开关比大于10<sup>6</sup>；在OFET器件中有良好的应用前景。<img file="dda0000154079800000011.GIF" wi="635" he="301" /> | ||
| 申请公布号 | CN102643290A | 申请公布日期 | 2012.08.22 |
| 申请号 | CN201210113437.7 | 申请日期 | 2012.04.17 |
| 申请人 | 中国科学院化学研究所 | 发明人 | 于贵;黄剑耀;王丽萍;罗皓;朱敏亮;陈华杰;刘云圻 |
| 分类号 | C07D495/04(2006.01)I;C07D495/22(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I | 主分类号 | C07D495/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人 | 关畅 |
| 主权项 | 1.式III所示化合物，<img file="FDA0000154079770000011.GIF" wi="952" he="507" />所述式III中，R为氢、烷基或芳基。 | ||
| 地址 | 100080 北京市海淀区中关村北一街2号 | ||