| 发明名称 | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺 | ||
| 摘要 | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺，它属于一种双银层低辐射膜及生产工艺。它主要是解决现有双银层低辐射膜产品不能同时兼顾透过率和遮阳系数两个指标等技术问题。其技术方案要点是：它通过运用真空磁控溅射镀膜方法生产出双银低辐射镀膜产品：基片/多层介质膜层1/Ag层/阻挡层/多层介质膜层2/Ag层/阻挡层/多层介质膜层3/Si3N4的膜产品。所述多层介质膜层1、2或3的组成模式包括：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si3N4/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si3N4/NbOy。它具有较高的透过率，同时具有较低的遮阳系数，且便于外观颜色和室内颜色的调整。它可广泛应用于建筑领域和车船窗户风挡玻璃等领域；也可镀制在软基片上，作为贴膜之用。 | ||
| 申请公布号 | CN101417520B | 申请公布日期 | 2012.08.22 |
| 申请号 | CN200810143345.7 | 申请日期 | 2008.10.17 |
| 申请人 | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 | 发明人 | 陈理;李国强 |
| 分类号 | B32B15/04(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 主分类号 | B32B15/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种多层介质双银层低辐射膜，其特征在于其膜结构为：基片/多层介质膜层1/Ag层/阻挡层/多层介质膜层2/Ag层/阻挡层/多层介质膜层3/Si3N4；所述多层介质膜层1、2或3的组成模式包括：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si3N4/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si3N4/NbOy。 | ||
| 地址 | 411100 湖南省湘潭市雨湖区草塘路26号 | ||