| 发明名称 | 基板清洗装置及方法、显示装置的制造装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供一种能够防止在清洗基板的旋转刷上静电吸附污染粒子的基板清洗装置、基板清洗方法、显示装置的制造装置和显示装置的制造方法。实施方式涉及的基板清洗装置(1)具备：输送机构(2)，输送基板(9)；旋转刷(3)，由通过与基板(9)摩擦而带负电的材料形成，通过与基板(9)接触并进行旋转来除去基板(9)上附着的污染粒子；和第一清洗液供给部(6)，向旋转刷(3)供给含有带负电的微小气泡的清洗液。 | ||
| 申请公布号 | CN102646616A | 申请公布日期 | 2012.08.22 |
| 申请号 | CN201210041193.6 | 申请日期 | 2012.02.21 |
| 申请人 | 芝浦机械电子株式会社;夏普株式会社 | 发明人 | 寺门秀晃;安藤佳大;西部幸伸;广濑治道;山元良高;田中康一;田中润一 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 徐冰冰;黄剑锋 |
| 主权项 | 一种基板清洗装置，其特征在于，具备：输送机构，输送基板；旋转刷，由通过与所述基板摩擦而带负电的材料形成，通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子；和第一清洗液供给部，向所述旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||