发明名称 |
硅电容传声器的封装结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及硅电容传声器的封装结构及其制造方法。本发明的硅电容传声器的封装结构包括:基底,其具有一上表面,在该上表面上布置有硅电容传声器和电路单元,该基底在其中具有后腔室,该基底包括气孔,用于供空气通过用于布置硅电容传声器的上表面和后腔室之间;和壳体,其覆盖布置在基底的上表面上的硅电容传声器和电路单元,用于对它们进行保护。 |
申请公布号 |
CN1813490B |
申请公布日期 |
2012.08.22 |
申请号 |
CN200580000595.X |
申请日期 |
2005.08.11 |
申请人 |
宝星电子株式会社 |
发明人 |
朴成镐;林俊 |
分类号 |
H04R19/04(2006.01)I;H04R31/00(2006.01)I |
主分类号 |
H04R19/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
陈坚 |
主权项 |
一种硅电容传声器的封装结构,该封装结构包括:基底,其具有一上表面,在该上表面上布置有硅电容传声器和电路单元,该基底在其中具有后腔室,该后腔室形成在所述硅电容传声器和所述电路单元的下方,该基底包括气孔,用于供空气通过用于布置硅电容传声器的上表面和后腔室之间,通过结合第一室板、第二室板和第三室板而形成所述基底,所述第一室板形成所述基底的下表面,所述第二室板包括所述后腔室,所述第三室板包括所述气孔并形成所述上表面;和壳体,其覆盖布置在所述基底的上表面上的硅电容传声器和电路单元,用于对它们进行保护。 |
地址 |
韩国仁川广域市 |