| 摘要 |
离子植入装置10系具有：射束整形部20，具备产生离子束的离子源22，且整形成带状离子束；处理部60，将带状离子束照射在处理基板62；以及射束输送部30，具备将带状离子束之射束厚度方向中的电流密度合计值以射束宽度方向的分布予以表示的电流密度分布进行调整的透镜要素40，在将带状离子束的厚度方向的厚度减薄而使其收敛后，照射在处理基板62。透镜要素40系在离子束的收敛位置52附近的区域，以调整离子束的电流密度分布的方式设置有透镜要素40。藉此，可将带状离子束的一部分在带状离子束的面内弯曲成较小而精度佳地调整电流密度分布。 |
