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Verfahren zur Herstellung einer Stickstoff enthaltenden Silanverbindung, die hauptsächlich Siliciumdiimid umfasst, wobei ein Chlorsilan oder ein Bromsilan mit flüssigem Ammoniak bei einer Reaktionstemperatur von —20 bis 0°C umgesetzt wird, unter Verwendung eines Reaktionssystems, mit flüssigem Ammoniak und einem organischen Lösungsmittel, ausgewählt aus aliphatischen oder alicyclischen Kohlenwasserstoffen mit 5 bis 7 Kohlenstoffatomen, Benzol, Toluol und Xylol, wobei das Ammoniak und das Lösungsmittel zwei getrennte Schichten bilden, wobei eine Lösung des Chlorsilans oder Bromsilans in dem gleichen organischen Lösungsmittel der unteren Schicht zugeführt wird und das Volumenverhältnis von Halogensilan zu flüssigem Ammoniak in einem Bereich von 0,030 bis 0,047 liegt, gefolgt von der Abtrennung des Reaktionsproduktes und Waschen mit Ammoniak sowie Trocknung, sodass das Reaktionsprodukt eine Reindichte von 1,4 bis 1,9 g/cm3, eine Rohdichte bei geringer Belastung von 0,045 bis 0,090 g/cm3, eine spezifische Oberflächengröße von 600 bis 1000 m2/g, einen Sauerstoffgehalt von...
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