发明名称 | 光刻设备及器件制造方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种光刻设备及器件制造方法,其中,在浸没光刻设备中,通过减小衬底台上的间隙尺寸或区域和/或覆盖间隙来减少或防止浸没液体中的气泡形成。 | ||
申请公布号 | CN102636964A | 申请公布日期 | 2012.08.15 |
申请号 | CN201210070251.8 | 申请日期 | 2006.11.22 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | H·詹森;S·M·J·科尼利森;S·N·L·唐德斯;R·F·德格拉夫;C·A·胡根达姆;H·雅各布斯;M·H·A·利德斯;J·J·S·M·默坦斯;B·斯特里夫柯克;J·-G·C·范德图尔恩;P·斯米茨;F·J·J·詹森;M·里彭 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
主权项 | 一种设置为将辐射束通过液体投射到衬底上的光刻投影设备,该设备包括配置为保持物体的支撑台,该物体包括传感器、衬底、密封板和盖板中的至少一个,其中物体和支撑台之间的间隙被保持为最小化以便最小化液体中的气泡形成。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |