发明名称 | 净化半导体制程废气的合氧供热装置 | ||
摘要 | 本实用新型提供一种净化半导体制程废气的合氧供热装置,包括罩设于处理槽顶部的头座,头座上设有废气导管与热管,该废气导管延伸至该处理槽内形成一朝下的废气排放口,该热管植入该处理槽内形成一沿该废气排放口方向延伸形成的管部,且该管部一端形成一热空气排放口,该热空气排放口低于该废气排放口一特定距离,以供应热空气进入处理槽内,并增加废气与该热管产生的热源的接触时间,以净化废气中的有害物质。 | ||
申请公布号 | CN202382256U | 申请公布日期 | 2012.08.15 |
申请号 | CN201120432178.5 | 申请日期 | 2011.11.03 |
申请人 | 东服企业股份有限公司 | 发明人 | 冯五裕 |
分类号 | F23G7/06(2006.01)I | 主分类号 | F23G7/06(2006.01)I |
代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人 | 孙皓晨 |
主权项 | 净化半导体制程废气的合氧供热装置,其特征在于,包括:一处理槽;一头座,罩设于该处理槽顶部,该头座上设有一个以上的废气导管及一个以上的热管;其中:该废气导管延伸至该处理槽内形成一朝下的废气排放口,该热管植入该处理槽内形成一沿该废气排放口方向延伸形成的管部,且该管部一端形成至少一热空气排放口,该热空气排放口低于该废气排放口。 | ||
地址 | 中国台湾台北市 |