发明名称 净化半导体制程废气的合氧供热装置
摘要 本实用新型提供一种净化半导体制程废气的合氧供热装置,包括罩设于处理槽顶部的头座,头座上设有废气导管与热管,该废气导管延伸至该处理槽内形成一朝下的废气排放口,该热管植入该处理槽内形成一沿该废气排放口方向延伸形成的管部,且该管部一端形成一热空气排放口,该热空气排放口低于该废气排放口一特定距离,以供应热空气进入处理槽内,并增加废气与该热管产生的热源的接触时间,以净化废气中的有害物质。
申请公布号 CN202382256U 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN201120432178.5 申请日期 2011.11.03
申请人 东服企业股份有限公司 发明人 冯五裕
分类号 F23G7/06(2006.01)I 主分类号 F23G7/06(2006.01)I
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人 孙皓晨
主权项 净化半导体制程废气的合氧供热装置,其特征在于,包括:一处理槽;一头座,罩设于该处理槽顶部,该头座上设有一个以上的废气导管及一个以上的热管;其中:该废气导管延伸至该处理槽内形成一朝下的废气排放口,该热管植入该处理槽内形成一沿该废气排放口方向延伸形成的管部,且该管部一端形成至少一热空气排放口,该热空气排放口低于该废气排放口。
地址 中国台湾台北市