发明名称 除杂装置
摘要 本实用新型公开了一种去除溶液表层挥发物的除杂装置,包括支架,所述支架上竖直设置有两个金属波纹管,两波纹管之间通过托盘相连,位于上方的波纹管的上端与支架上端固定连接,位于下方的波纹管的下端与支架下端固定连接,托盘上设置有手柄,且手柄位于波纹管外侧,托盘上还设置有金属杆,金属杆位于下方的波纹管内,且当金属杆向下移动时可从下方的波纹管中伸出,两波纹管、托盘和支架之间形成一个只有下方波纹管下端与外界相通的空腔。其优点是:利用挥发物的趋冷性,使其凝结在金属杆上,最后随金属杆取出,避免了挥发物对晶体生长的影响。
申请公布号 CN202380123U 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN201120556312.2 申请日期 2011.12.28
申请人 苏州优晶光电科技有限公司 发明人 伊戈尔库兹涅佐夫;伊戈尔柯尔克;马克菲列格勒;刘春艳;毕成;胡春霞
分类号 C30B15/00(2006.01)I;C30B29/20(2006.01)I 主分类号 C30B15/00(2006.01)I
代理机构 张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 代理人 孙高
主权项 除杂装置,包括支架,其特征在于:所述支架上竖直设置有两个金属波纹管,两波纹管之间通过托盘相连,位于上方的波纹管的上端与支架上端固定连接,位于下方的波纹管的下端与支架下端固定连接,托盘上设置有手柄,且手柄位于波纹管外侧,托盘上还设置有金属杆,金属杆位于下方的波纹管内,且当金属杆向下移动时可从下方的波纹管中伸出,两波纹管、托盘和支架之间形成一个只有下方波纹管下端与外界相通的空腔。
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