发明名称 |
新型大理石抛光磨块 |
摘要 |
本实用新型公开了一种新型大理石抛光磨块,包括磨块和基座,其磨块通过环氧树脂与基座固定连接;所述基座的顶部边缘设有凸缘,使基座顶部形成与磨块形状相适配的下凹空腔。本实用新型为了更好的提高板材的光泽度,添加入另一种草酸盐即草酸钛钾来改善磨块的化学抛光性能,加入一定量的粒度W1.5的金刚石微粉增强其物理抛光性能,添加后产品磨抛天然大理石的光泽度可达100°以上,磨抛人造岗石光泽度可达85°,工作效率显著提高,降低了企业的生产成本,提高了企业的经济效益。 |
申请公布号 |
CN202377930U |
申请公布日期 |
2012.08.15 |
申请号 |
CN201120369433.6 |
申请日期 |
2011.09.30 |
申请人 |
梁国阳 |
发明人 |
梁国阳 |
分类号 |
B24D3/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24D3/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种新型大理石抛光磨块,包括磨块和基座,其特征在于:所述磨块通过环氧树脂与基座固定连接;所述基座的顶部边缘设有凸缘,使基座顶部形成与磨块形状相适配的下凹空腔;所述基座和磨块通过沉头螺栓连接;所述基座和磨块之间设有联结钢板,联结钢板和基座焊接;基座、磨块和联结钢板上对应开设有螺栓孔。 |
地址 |
362300 福建省泉州市南安市溪美湖新路34号306室 |