清洁气体

摘要

本发明公开的是包含CHF2COF而成的用于去除堆积物的清洁气体。该清洁气体可包含O2、O3、CO、CO2、F2、NF3、Cl2、Br2、I2、XFn(式中，X表示Cl、I或者Br，n表示1≤n≤7的整数。)、CH4、CH3F、CH2F2、CHF3、N2、He、Ar、Ne、Kr等，可适用于包含W、Ti、Mo、Re、Ge、P、Si、V、Nb、Ta、Se、Te、Mo、Re、Os、Ir、Sb、Ge、Au、Ag、As、Cr及其化合物等的堆积物。该清洁气体不仅清洁性能优异，且容易获取，实质上不副产对环境造成负担的CF4。

主权项

一种清洁气体，其包含CHF2COF而成，用于去除在使用化学气相沉积法即CVD法、金属有机物化学气相沉积法即MOCCD、溅射法、溶胶凝胶法或者蒸镀法制造薄膜、厚膜、粉末或者晶须时附带地堆积于制造装置的内壁或其附属装置的堆积物。