发明名称 一种PN结的扩散方法
摘要 本发明公开了一种PN结的扩散方法,包括:在硅片表面形成氧化层;提供磷原子,并使所述磷原子通过所述氧化层向所述硅片内部进行扩散。由于本发明所提供的PN结的扩散方法,首先在硅片表面形成氧化层;然后提供磷原子,并使所述磷原子通过所述氧化层向所述硅片内部进行扩散。如此磷原子透过氧化层向硅片内部扩散的扩散方法,可以降低硅片表面杂质浓度,减少高浓度浅结磷扩散对硅片表面带来的晶格损伤,进而提高电池片的转换效率。
申请公布号 CN102637778A 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN201210143416.X 申请日期 2012.05.10
申请人 英利能源(中国)有限公司 发明人 马桂艳;宋连胜;田世雄;张东升
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L21/223(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 王宝筠
主权项 一种PN结的扩散方法,其特征在于,包括:在硅片表面形成氧化层;提供磷原子,并使所述磷原子通过所述氧化层向所述硅片内部进行扩散。
地址 071051 河北省保定市朝阳北大街3399号