发明名称 |
滚动光敏印章及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种滚动光敏印章及其制作方法,能保证纸张上形成的印章图案尺寸与设计尺寸相符。包括a、测出设计印章图案的长度尺寸为a2,宽度尺寸为b2;b、制作班圆柱形基体;c、采用光敏材料制作形成平面结构的印章层,测出光敏材料的延伸率为k,并在平面结构的印章层表面制作图案层,所述图案层的长度尺寸为a1,宽度尺寸为b1,有a1=a2,b1=b2/k;d、将印章层贴附在半圆柱形基体的半圆柱面上,使图案层的长度方向沿半圆柱形基体的轴线方向布置,宽度方向沿半圆柱形基体的周向方向布置。采用滚动光敏印章进行滚动盖章过程中,在纸张上形成的印章图案与设计印章图案可保证一致,尤其适合在滚动印章装置上推广应用。 |
申请公布号 |
CN102632732A |
申请公布日期 |
2012.08.15 |
申请号 |
CN201210043624.2 |
申请日期 |
2012.02.24 |
申请人 |
成都三泰电子实业股份有限公司 |
发明人 |
谢万彬;马宗涛;补建;罗安;周聪俊 |
分类号 |
B41K1/38(2006.01)I |
主分类号 |
B41K1/38(2006.01)I |
代理机构 |
成都虹桥专利事务所 51124 |
代理人 |
何强 |
主权项 |
滚动光敏印章的制作方法,包括以下步骤:a、测出设计印章图案的长度尺寸为a2,宽度尺寸为b2;b、制作由半圆柱面(1)与平面(2)围成的半圆柱形基体,该半圆柱形基体的轴向长度大于或等于a2,半圆柱面(1)的圆弧长度大于或等于b2;c、采用光敏材料制作形成平面结构的印章层(5),测出光敏材料的延伸率为k,并在平面结构的印章层(5)表面制作图案层(6),所述图案层(6)的长度尺寸为a1,宽度尺寸为b1,有a1=a2,b1=b2/k;d、将印章层(5)贴附在半圆柱形基体的半圆柱面(1)上,使图案层(6)的长度方向沿半圆柱形基体的轴线方向布置,宽度方向沿半圆柱形基体的周向方向布置。 |
地址 |
610091 四川省成都市金牛区高科技产业园区蜀西路42号 |