发明名称 薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
摘要 一种薄膜晶体管阵列基板的制造方法,其是在每一次的图案化制程中,同时定义膜层以形成多个切裂标记。这些切裂标记为沿垂直预切裂方向紧密地排列成行,且这些切裂标记形成于一预切裂位置的两侧。藉由以这些切裂标记作为刻度记号,可显示出实际切裂位置与预切裂位置的偏移程度,进而可进一步对切裂制程做精确地调整,以提高制程良率。
申请公布号 CN101728396B 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN200810167540.3 申请日期 2008.10.10
申请人 华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司 发明人 施媚莎
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 孙长龙
主权项 一种薄膜晶体管阵列基板的制造方法,其特征在于,包括:提供一基板,该基板具有一组件区与一切裂标记区;在该基板上形成一第一导电层;图案化该第一导电层,以于该组件区的该基板上形成多数个栅极,以及同时于该切裂标记区的该基板上形成至少一第一切裂标记;在该基板上依序形成一介电层、一半导体材料层,以覆盖该些栅极与该第一切裂标记;图案化该半导体材料层,以于每一栅极上方的该介电层上形成一通道层,以及同时于该切裂标记区的该介电层上形成至少一第二切裂标记;在该基板上形成一第二导电层;图案化该第二导电层,以于每一栅极上方形成一源极与一漏极,以及同时于该切裂标记区的该介电层上形成至少一第三切裂标记;在该基板上形成一保护层;图案化该保护层,以于该组件区形成曝露出每一漏极的一接触窗开口,以及同时于该切裂标记区的该介电层上形成至少一第四切裂标记;在该基板上形成一透明导电材料层;以及图案化该透明导电材料层,以形成多数个像素电极,每一像素电极经由该接触窗开口与对应的该漏极电性连接,以及同时于该切裂标记区的该介电层上形成至少一第五切裂标记,其中该些切裂标记为沿垂直预切裂方向紧密地排列成行,且该些切裂标记形成于一预切裂位置的两侧。
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