| 发明名称 | 投射系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种投射系统，包括投射装置与辅助设定装置。其中，所述辅助设定装置电连接所述投射装置，用以响应所述投射装置的处理器所提供的多个取样点而自动地协助所述投射装置设定每一取样点所对应的适当变焦参数与适当聚焦参数。 | ||
| 申请公布号 | CN102636939A | 申请公布日期 | 2012.08.15 |
| 申请号 | CN201110038240.7 | 申请日期 | 2011.02.11 |
| 申请人 | 中强光电股份有限公司 | 发明人 | 林鸿儒;胡连福 |
| 分类号 | G03B17/54(2006.01)I;G03B21/14(2006.01)I;G03B21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03B17/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈松涛;韩宏 |
| 主权项 | 一种投射系统，包括：投射装置；以及辅助设定装置，电连接所述投射装置，用以响应所述投射装置的处理器所提供的多个取样点而自动地协助所述投射装置设定每一所述取样点所对应的适当变焦参数与适当聚焦参数。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||