一种用于电容式触摸屏双层透明导电薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种用于电容式触摸屏透明导电薄膜，尤其涉及一种用于电容式触摸屏双层透明导电薄膜。在柔性透明基材上镀上下两层纳米级薄膜层，两层纳米级薄膜层分别为柔性透明基材上表面的粘接层，粘接层上表面的透明导电层，本发明柔性基材上下表面加硬层起到保护PET的作用。基材为：光学级普通PET或者带HC(hardcoatingfilm)高屈PET。折射率范围：1.6-1.75，基材粘接层为SiyOx或SizNyOx，厚度：5-30nm，导电层为ITO，厚度：15-25nm。基材上下表面加硬层起到保护PET的作用。相对于目前触摸屏导电结构而言，本膜系结构粘接层厚度较薄，在触摸屏生产过程中有效减少了由于厚度较厚导致的折伤，龟裂等不良现象。有效的提高了触摸屏生产良率。

主权项

种用于电容式触摸屏双层透明导电薄膜的制备方法，其制备方法的特征在于：在柔性透明基材（3）上镀上下两层纳米级薄膜层，两层纳米级薄膜层分别为柔性透明基材上表面的粘接层（2），粘接层（2）上表面的透明导电层（1）；柔性透明基材（3）上表面的粘接层（2）采用中频交流磁控溅射方式沉积到基材（3）上，沉积室气氛充入纯氩气，纯氮气，以及氧气，溅射垂直距离为50—150mm，溅射功率控制在5‑‑‑19kw，膜层厚度为5‑‑‑30nm；粘接层（2）上表面的透明导电层采用直流磁控溅射方式沉积，溅射室气氛充入纯氩气，纯氮气，以及氧氩混合器，溅射垂直距离为50—150mm，溅射功率控制在5‑‑‑8kw，厚度为15—25nm；上述步骤完成后所获得的透明导电薄膜可见光透过率至少为90%，方阻为150‑180欧姆。