发明名称 |
具有倾斜真空导管的近头系统、设备和方法 |
摘要 |
一种近头包括头部表面。该头部表面包括第一平坦区和多个第一导管。多个第一导管中的各个由多个第一离散孔中的对应的一个来限定。多个第一离散孔位于头部表面中并延伸通过第一平坦区。头部表面还包括第二平坦区和多个第二导管。多个第二导管由对应的多个第二离散孔限定,该多个第二离散孔位于头部表面中并延伸通过第二平坦区。头部表面还包括布置在第一平坦区和第二平坦区之间并与之相邻的第三平坦区和多个第三导管。多个第三导管由对应的多个第三离散孔限定,该多个第三离散孔位于头部表面中并延伸通过第三平坦区。第三导管以相对于第三平坦区的第一角度形成。第一角度在30度和60度之间。也描述了一种用近头处理衬底的系统和方法。 |
申请公布号 |
CN101652831B |
申请公布日期 |
2012.08.15 |
申请号 |
CN200880011132.7 |
申请日期 |
2008.02.22 |
申请人 |
兰姆研究有限公司 |
发明人 |
M·拉夫金;J·德拉里奥斯;F·C·雷德克;M·科罗利克;E·M·弗里尔 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
朱海煜;徐予红 |
主权项 |
一种近头,包括:头部表面,该头部表面包括:第一平坦区和多个第一导管,所述多个第一导管中的每个由多个第一离散孔中的对应的一个来限定,所述多个第一离散孔位于所述头部表面中并延伸通过所述第一平坦区;第二平坦区和多个第二导管,所述多个第二导管由对应多个第二离散孔来限定,所述多个第二离散孔位于所述头部表面中并延伸通过所述第二平坦区;以及第三平坦区和多个第三导管,所述第三平坦区设置在所述第一平坦区和所述第二平坦区之间并与之相邻,所述多个第三导管由对应多个第三离散孔限定,所述多个第三离散孔位于所述头部表面中并延伸通过所述第三平坦区,其中所述第三导管以相对于所述第三平坦区的第一角度形成,所述第一角度成朝向所述第一导管的角度,所述第一角度在30度和60度之间。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |